品牌：SENTECH

型號：ICP-RIE SI 500

產地：德國

價格：面議

產品介紹：

    SI 500為研發和生產提供先進的電感耦合等離子體(ICP)工藝設備。它基于ICP等離子體源PTSA，動態溫度控制的襯底電極，全自動控制的真空系統，使用遠程現場總線技術的先進的SETECH控制軟件和用于操作SI 500的用戶友好的通用接口。靈活性和模塊化是SI 500主要的設計特點。

 500 ICP等離子刻蝕機，可以用于加工各種各樣的襯底，從直徑高達200 mm的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預真空室保證穩定的工藝條件，并且切換工藝非常容易。

SI 500 ICP等離子刻蝕機，通過配置可用于刻蝕不同材料，包括但不僅限于例如三五族化合物半導體(GaAs, InP, GaN, InSb)，介質，石英，玻璃，硅和硅化合物(SiC, SiGe),還有金屬等。

SENTECH提供用戶不同級別的自動化程度，從真空片盒載片到一個工藝腔室到六個工藝模塊端口，可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統，目標是高靈活性或高產量。SI 500 ICP等離子刻蝕機也可用作多腔系統中的工藝模塊。